脑炎坏死灶在磁共振上表现为T1加权像低信号、T2加权像高信号、增强扫描环形强化、扩散加权成像高信号、周围可见水肿带。具体分析如下:
1.T1加权像低信号:脑炎坏死灶在T1加权像呈现明显低信号,与正常脑组织对比显著。坏死区域组织含水量增加,导致质子密度降低,信号减弱。病灶边界通常模糊,周围可能伴随轻度占位效应。信号强度与坏死程度相关,完全液化坏死区信号更低。
2.T2加权像高信号:T2加权像上坏死灶表现为明显高信号,与周围正常脑组织分界清晰。组织坏死导致自由水含量增加,T2弛豫时间延长,信号增强。病灶中心信号均匀,边缘可能因炎性反应呈现稍低信号环。周围水肿带在T2像上同样显示为高信号。
3.增强扫描环形强化:静脉注射对比剂后,坏死灶周边呈现环形强化。强化环代表血脑屏障破坏及新生血管形成的炎性反应带。中心坏死区无强化,与周围正常组织分界清晰。环形强化形态不规则,厚度不均匀,可能伴随结节状突起。
4.扩散加权成像高信号:扩散加权成像显示坏死灶为高信号,表观扩散系数值降低。细胞毒性水肿及坏死组织导致水分子扩散受限,信号增高。病灶中心信号强度高于周围水肿带,有助于区分坏死与单纯水肿。
5.周围可见水肿带:坏死灶周围常见片状水肿带,T1像呈低信号,T2像呈高信号。水肿范围与炎症程度相关,可沿白质纤维束扩展。占位效应可能导致邻近脑室受压或中线结构移位。
磁共振检查需结合临床病史及其他影像特征综合分析,避免单一征象误判。动态随访观察病灶变化对明确诊断至关重要。对比剂使用需评估肾功能,扩散加权成像有助于早期发现病变。
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